Qua è orgogliosa di essere presente alla fiera Ultrapure Water Microelectronics di Portland, Oregon, il 31 maggio e il 1 giugno. Metteremo in evidenza la nostra tecnologia FEDI (Fractional Electrodeionization) come soluzione per l'industria microelettronica. Ecco un breve riassunto del nostro FEDI:
Tecnologia FEDI
Fare una buona tecnologia ancora meglio
Sono stati rimossi due tipi di impurità ioniche in un processo EDI; impurità fortemente ionizzate (ioni bivalenti come Ca, Mg, SO4 e ioni monovalenti come Na, Cl e HCO3) e impurità debolmente ionizzate (come CO2 B e SiO2). Entrambi i tipi di impurità ioniche richiedono una diversa forza motrice (corrente) per il movimento e la separazione. Le impurità fortemente ionizzate richiedono meno corrente, mentre le impurità debolmente ionizzate richiedono di più. Piuttosto che applicare una corrente all'intero modulo, il processo FEDI differenzia il trattamento delle impurità debolmente ionizzate e fortemente ionizzate applicando diverse correnti e tensioni in un processo a due stadi. Ciò consente di rimuovere in Stage-1 una porzione significativa di impurità fortemente ionizzate, principalmente gli ioni bivalenti, che possono causare precipitazione ad una tensione più elevata. Successivamente, viene applicata una tensione più elevata per rimuovere impurità debolmente ionizzate in Stage-2. Gli ioni respinti da entrambi gli stadi vengono rimossi, utilizzando flussi di scarto separati, evitando così la precipitazione della durezza.
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Monitoraggio / controllo H2O2 / Impatto sul processo di monitoraggio
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